激光直写LDI设备用激光器
发布时间：
2024-08-29 16:40
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405nm激光器可用于激光直写设备，与传统显影的光刻方式不同，通过曝光强度可控的激光束直接在材料表面光刻任意图形，激光器功率范围可定制，从几百毫瓦到几百瓦都有，搭配可拔插多模光纤使用。
双波长激光器规格
中心波长：375nm和405nm
激光功率：8W（375nm）和40W（405nm）
光纤类型：105nm纤芯直径多模光纤
数值孔径：0.22
光纤接口：SMA
工作温度：18℃~25℃
冷却方式：水冷
储存温度：-30℃~70℃
激光直写光刻技术通常使用曝光强度可控的激光束进行光刻曝光。半导体激光器出射405nm或375nm单一波长曝光，激光经由光学系统调控后，由物镜汇聚到光刻胶上表面。计算机控制激光器的出射激光功率以及二维移动平台的运动，以控制曝光能量和位置。
激光直写光刻技术利用激光脉冲与材料的非线性作用，实现高精度的复杂功能结构和器件的增材制造。激光直写系统的基本结构包括激光器、声光调制器等部件，基本工作流程涉及计算机控制激光束在光刻胶上直接扫描曝光。
应用场景
1、激光直写应用：405nm激光器的高光子能量有助于在光刻胶上实现更精细的曝光，从而用于高精度的微纳结构制造。
2、PCB制版：在印刷电路板（PCB）制造中，405nm激光器可用于直接在PCB上刻写精细的电路图案，提高制版的精度和效率。
3、LDI曝光：激光直接成像技术使用激光束直接在光敏材料上成像，405nm激光器因其高分辨率特性，非常适合用于LDI曝光过程。
4、CTS丝网印刷：丝网印刷是一种广泛应用的图案转移技术，405nm激光器可以用于在丝网上制作精细的图案，从而提高印刷质量。
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